SAM 自己組織化単分子膜 SAM 自己組織化単分子膜
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電気化学活性チオール フッ化チオール / シラン MOFs
蛍光チオール / ジスルフィド シランカップリングに関して 機能性酸化グラフェン
光応答性チオール シランカップリング剤 酸化鉄ナノ粒子修飾用リガンド
バイオレジスタント双性イオン 糖類ジスルフィド

赤字はインストラクションです。
*納期は通常、御発注から約1か月で納品となります。合成と輸入に要する時間で前後いたしますが何卒ご了承ください。
   販売価格には輸入諸掛等すべて含まれており、宅急便で納品させていただきます。
*MOF-5は室温で保存願います(他のチオール試薬のように冷凍保存は必要ありませんのでご注意ください)。
*カスタムメイドを承っておりますのでお問合せいただければ幸甚です。

MOF metal organic framework 多孔性材料 ポーラス

固体の構造内部に細孔を持つ構造体は多孔性(ポーラス)化合物、多孔性材料などと言われています。このような多孔性材料の中で、金属有機構造体MOF(Metal Organic Frameworks)は金属イオンと有機配位子の配位結合を利用して多孔性構造を形成するもので、活性炭やゼオライトなどよりもはるかに比表面積が大きく、近年注目を集めるようになってきました。
MOF-5 (Zn4O(C8H4O4)3)はterephthalic acid C6H4(COOH)2 リンカーと octahedral carboxylato Zn4O(CO2)6ジョイント(2次ビルディングユニット)で構成された結晶構造です。

アプリケーション例
1. ガスの貯蔵や分離、水素ガス、窒素ガス (1), (2)
2. 触媒 (4), (6)
3. マテリアルサイエンス研究材料 (3), (5)

文献
1. Eddaoudi M, Kim J, Rosi N, Vodak D, Wachter J, O'Keeffe M, Yaghi OM; Science 2002, 295(5554), 469-72.
2. Kaye S, Daily A, Yaghi O, Long J; J. Am. Chem. Soc. 2007, 129 (46), 14176-14177.
3. Han S, Wei Y, Valente C, Lagzi I, Gassensmith JJ, Coskun A, Stoddart JF, Grzybowski BA; J. Am. Chem. Soc. 2010, 132 (46), 16358-61.
4. Wang L, Xiao B, Wang B, Wu J; J. Sci. China Chem. 2011, 54 (9), 1468-1473.
5. Choi K, Jeon H, Kang J, Yaghi O; J. Am. Chem. Soc. 2011, 133, 11920-11923.
6. Park T, Hickman A, Koh K, Martin S, Wong-Foy A, Sanford M, Matzger, A; J. Am. Chem. Soc. 2011, 133, 20138-20141.
7. Nayuk R, Zacher D, Schweins R, Wiktor C, Fischer R, van Tendeloo G, Huber K; J. Phys. Chem. C 2012, 116, 6127-6123.


MOF metal organic framework 多孔性材料 ポーラス
製品 コード番号 容量 価格(¥)
Zn4O(C8H4O4)3 MF 001-0.05 50mg 31,000
MW=770.12 MF 001-0.25 250mg  60,000
MF 001-1 1g  131,000
MOF metal organic framework 多孔性材料 ポーラス

MOF-5


性状:溶媒中に無色の立方体又は正方結晶。
溶媒:DMF( N,N-ジメチルホルムアミド)

MOFクリスタルサイズ:1 x 1 x 1 mm3〜 3 x 3 x 2 mm3

細孔サイズ:0.8nm

比表面積 :4400 m2/g (Langmuir surface area)

容量: 50mgクリスタル / 1バイアル瓶(DMF溶媒2ml中)



ガスの吸着の為にMOF-5結晶を溶媒から取り出す場合
1)新しいDMF溶媒を用意し、バイアル瓶から移し、約8時間浸漬させてください。これを4回繰り返してください(溶媒は毎回新しいものと代えてください)。

2)次にジクロロメタンに移し、同様に8時間浸漬を8回繰り返してください(溶媒は毎回新しいものと代えてください)。

3)<1 torr/min.の真空度が達成されるまで、真空引きをしてください。


          
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